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Titanium disilicide : ウィキペディア英語版
Titanium disilicide

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Titanium disilicide (TiSi2) is an inorganic chemical compound.
Titanium silicide is used in the semiconductor industry. It is typically grown by means of salicide technology over silicon and polysilicon lines to reduce the sheet resistance of local transistors connections.
In the microelectronic industry it is typically used in the C54 phase.
==References==



抄文引用元・出典: フリー百科事典『 ウィキペディア(Wikipedia)
ウィキペディアで「Titanium disilicide」の詳細全文を読む



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